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應用案例
APPLICATION CASES
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四氟化鍺GeF4產(chǎn)品中的氟化氫HF氣體殘留
發(fā)布日期:2023-02-16 13:33:31

近年來(lái)國家鼓勵國內半導體產(chǎn)業(yè)創(chuàng )新發(fā)展,打破國外壟斷,實(shí)現技術(shù)自主,出臺了一系列支持和引導該行業(yè)的政策法規。四氟化鍺(GeF4)作為一種鍺的氟化物,在半導體行業(yè)中用于摻雜和離子注入,結合乙硅烷氣體,可以直接在玻璃基底上制造硅鍺微晶,其潛在應用價(jià)值正越發(fā)受到國內外企業(yè)關(guān)注。


在某GeF4生產(chǎn)工藝過(guò)程中,需要盡力去除產(chǎn)品氣GeF4 中雜質(zhì)HF氣體,使其殘留量值低于企業(yè)標準中的限量值(35ppm)。為了監測此工藝過(guò)程的效果,需要定量監測GeF4氣體中的HF殘留。含量范圍大約0-500 ppm。

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鑒知技術(shù)多組分在線(xiàn)氣體分析儀可根據氣體分子對激光能量的“選頻吸收”進(jìn)行氣體濃度的測量,實(shí)現HF含量的實(shí)時(shí)監測,定量監測范圍可定制,在環(huán)境、安全監測中已有應用。上圖為GeF4生產(chǎn)工藝過(guò)程的HF殘留量監測方案,由于HF具有強腐蝕性無(wú)法用常規氣相色譜監測,在線(xiàn)激光氣體分析儀是殘留HF氣體檢測的解決方案。


下圖為某一批次GeF4生產(chǎn)工藝過(guò)程中殘留HF氣體監測實(shí)測圖,可見(jiàn)HF氣體殘留量高達40 ppm以上,高于35 ppm企標限量值,為不合格產(chǎn)品。

2.2.jpg


鑒知技術(shù)氣體分析儀及氣體分析系統靈敏度高,能夠監測ppm量級的氣體殘留及含量值,也可以根據需求靈活定制。響應速度數秒內。定量檢測精±1.0%F.S.,設備防腐蝕,適合工業(yè)生產(chǎn)應用,在氟化工氣體監測、泄露預警中也有良好應用。


【相關(guān)產(chǎn)品】

鑒知技術(shù)氣體在線(xiàn)拉曼分析儀


【鑒知技術(shù)簡(jiǎn)介】

北京鑒知技術(shù)有限公司,簡(jiǎn)稱(chēng)“鑒知技術(shù)”,是一家以光譜檢測技術(shù)為核心的專(zhuān)業(yè)公司,拉曼光譜儀、光纖光譜儀、多氣體分析儀等產(chǎn)品已廣泛應用于安檢、食品、藥品、醫療等諸多領(lǐng)域,公司致力于為客戶(hù)提供物質(zhì)識別整體解決方案。


鑒知技術(shù)歷經(jīng)10余年的孵育,專(zhuān)利累計申請數達200余件。公司所擁有的技術(shù)獲得了國家科學(xué)技術(shù)委員會(huì )科技成果鑒定證書(shū)及中國專(zhuān)利優(yōu)秀獎,相關(guān)產(chǎn)品獲得了國際發(fā)明展覽會(huì )金獎、北京市新技術(shù)新產(chǎn)品證書(shū)、中國科學(xué)儀器年度優(yōu)秀新品獎、朱良漪分析儀器創(chuàng )新獎之“創(chuàng )新成果獎”等。


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